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机型特点
* 该设备使用半导体泵浦固体激光器,用波长为808nm半导体激光器泵浦Nd:YAG介质,使介质产生大量的反转粒子,在Q开关的作用下产生波长为1064nm的高能量激光脉冲输出。
* 光学系统采用全密封结构。
* 具有光路预览和焦点指示功能。
* #设计的激光谐振腔使得输出光束质量更好,加工线条更精美。
* 激光振镜扫描精度高,速度快,性能稳定。
* 水冷系统温度自动调节为机器长寿命工作提供了可靠保障。
* 采用全模块化设计,各模块具有相应独立的运行空间,相互连接简单、直接,#大限度地减少电磁干扰和热干扰,保证了系统长时间工作的稳定性。
* 同时配以精密XYZ三维工作台,能够实现精密定位要求。
* 工作台面较大,行程较长,适用于较大物件打标。
* 系统能够自动编码,自动打印序列号、批号、日期等。
* 软件控制系统以WINDOWS XP为操作平台,全中文界面,可兼容AUTOCAD、CORELDRAW、PHOTPSHOP等多种文件输出。
适用范围
可雕刻和标记金属及多种非金属材料。更适合应用于一些要求更精细、精度更高的场合。
广泛应用于五金制品、工具配件、电子元器件、集成电路(IC)、电工电器、通讯器材、精密器械、眼镜钟表、#饰饰品、汽车配件、仪器仪表、塑胶按键、建筑材料、#器械等行业。
适用材料
普通金属及合金(铁、铜、铝、镁、锌等所有金属),稀有金属及合金(金、银、钛),金属氧化物(各种金属氧化物均可),特殊表面处理(磷化、铝阳极化、电镀表面),ABS料(电器用品外壳,日用品),油墨(透光按键、印刷制品),环氧树脂(电子元件的封装、绝缘层)。
技术参数
激光参数/型号 XJDP-50L-Ⅱ XJDP-75L-Ⅱ
激光波长 1064nm 1064nm
#大激光功率 50W 75W
光束质量M2 <4 <6
激光重复频率 ≤30KHz ≤50KHz
打标范围 110mm×110mm(可选配) 110mm×110mm(可选配)
标刻线宽 ≤0.02mm ≤0.025mm
一次标刻深度 ≤0.3mm (视材料可调) ≤0.4mm (视材料可调)
刻写线速度 ≤7000mm/s ≤7000mm/s
#小字符 0.2mm 0.2mm
重复精度 0.003mm 0.003mm
水冷系统 0.6 P 0.6 P
温度控制精度 0.1℃ 0.1℃
整机功率 1.5 KW 2 KW
供电要求 单相/220V/50Hz/10A 单相/220V/50Hz/15A
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