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光电子能谱仪供应商|*供应光电子能谱仪|禹重供

1.综述
Ulvac-Phi是*高真空表面分析仪器供应商。Ulvac-Phi创新的XPS、AES和SIMS技术，提供客户以独有的工具来解决具挑战性的器材问题，从而令客户加快发展新产品和及新技术。作为提供全方位（面）的高性能XPS、AES和SIMS表面分析仪器的*供应商，向广泛高科技领域上的潜在客户（包括纳米技术、微电子技术、存储介质、催化、生物材料、药品;基本材料如金属、矿物、聚合物、复合材料和涂料）提供完整的表面分析解决方案上，Ulvac-Phi具有独特的地位。
X射线光电子能谱（XPS）是材料科学和发展的领域中*广泛使用的表面分析技术。其原理是利用X射线束（一般会使铝阳极或镁阳极）作为入射源，照射在样品表面导致让光电子从原子的核心层被激发出。根据测得的光电子所发出的电子动能，再依照能量守恒定律就可以知道电子的结合能，从而也就可知道样品表面是何物质。
ThePHI5000VersaprobeII(VP-II)能提供高性能的微区光谱，化学成像，二次电子成像，其*小的X射线束光栅扫描直径约为10微米。X射线束的大小可以轻易的使用电脑控制在直径10微米到400微米设定，从而达到*好的空间解释度与*高的灵敏度。VP-II可以轻易的对不管是导体或非导体获取化学态的成像或是离子溅射的深度分析，样品例子如催化剂，金属和电子设备，玻璃和聚合物，甚至是生物材料和组织等等。
VP-II维持了PHI5000Versaprobe的核心能力，包括扫描和聚焦X射线，专利的离子与电子双中和系统，以及可以在极低电压也可工作的*能离子枪；另有可选项配置C60离子枪，提供了许多有机材料独特而强大的溅射深度剖析能力；另外，一个完全自动化的五轴样品操盘促进多个样品的自动分析并提供Zalar旋转“ZalarRotationTM”的能力，可配合氩气离子束或可选项配置的C60来进行溅射深度剖析。*后，全新的操作界面SMARTSOFT-XPS，提供多技术仪器控制一个易于使用的平台。在数据解释和操纵总结中，对VP-II的性能有着明显的提高。
2.特点
*小的X射线束：X射线源的产生，是经由使用一个聚焦的电子束扫描在铝阳极时，此产生的扫描X射线后再经由一石英晶体的单色器聚焦并反射样品表面。VP-II所取得的*小X-ray探头尺寸是10um，当中完全不需要使用有任何风格的孔径，就可以以计算机控制X射线的大小。以下图片显示VP-II上X射线束的聚焦和扫描性能。
精准的样品分析区域：以类似SEM功能的SXI图像,可以实时的显示样品的表面形貌。用户可以很方便地导航SXI图像，然后很容易地以选择分析来定义分析的区域。即使在正常的照片图像中看不见的特征，从SXI图像就或许可以很容易地被发现和定位。(以下图四作出共中实例)
*高的灵敏度与*小的X-ray束斑：PHIVersaProbeII是由获得专利的高通量X射线源来提供一个聚焦的X射线束，可根据样品表面扫描。
VP-II多功能的技术平台：根据*的需要，以下是VP-II的可选项配备
-10keV的C60离子枪
-双阳极，非单色X射线源
-紫外线光源
-95毫米的样品处理
-热/冷样品处理
-可选的AES电子枪
-真空转移平台(VacuumTransferVessel)
3.应用
Ulvac-PhiVP-II在纳米技术、微电子技术、存储介质、催化、生物材料、药品、基本材料如金属、矿物、聚合物、复合材料和涂料等方面提供完整的表面分析解决方案
包括表面的元素与化学态分析（氢和氦除外）：
-表面物种的化学状态的识别，包括有机和无机材料，导体和绝缘体。
-深入薄膜中的组成元素分布概况，包括半导体、薄膜结构，磁介质薄膜，光学镀膜，装饰涂料，和耐磨涂层。
-在必须避免会对电子束技术有破坏性效果时的样品成分分析。
网址：instruments/physics/xps/83-versaprobe.html




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